7NM光刻机

14nm光刻机通过多次曝光、EUV精细化处理、自底向上的构造技术、以及设计创新等多重技术相结合，实现了7nm和5nm芯片的制造。多次曝光 尤其关键，它可以使得原有的光刻机达到实际分辨率以下的精细图案制作。通过这种技术，使得更小尺寸的晶体管布局成为可能。 一、光刻机基础与多次曝光 光刻机是芯片制造中关键的设备，它用于在硅片上制作电路图案。14nm光刻机的特点 在于使用了深紫外光源...